拋光鎢珠需結(jié)合機(jī)械與化學(xué)方法，通過(guò)多階段精細(xì)操作實(shí)現(xiàn)鏡面效果，同時(shí)需根據(jù)鎢珠的尺寸、形狀及表面質(zhì)量要求靈活調(diào)整工藝參數(shù)。
一、機(jī)械拋光法
粗磨階段：使用金相砂紙（如120目、400目、800目、1200目）或金剛石砂紙，按粒度從小到大逐步打磨。打磨時(shí)需用水或研磨液冷卻，防止鎢珠過(guò)熱變形。保持均勻壓力，避免局部過(guò)度磨損。打磨后表面應(yīng)無(wú)明顯劃痕，光澤度提升。
精拋階段：選用W5-7、W8-10或W20型號(hào)的金剛石拋光膏，顆粒越細(xì)，拋光效果越光滑。將拋光膏均勻涂抹在鎢珠表面，用中間鋸縫填研磨膏的軟質(zhì)木棍或拋光機(jī)低速旋轉(zhuǎn)拋光。拋光過(guò)程中需不斷觀察表面，直至肉眼無(wú)明顯劃痕。超聲波拋光可配合金剛石微粉，進(jìn)一步去除細(xì)微瑕疵。
終拋階段：通過(guò)高精度慢走絲線切割機(jī)床（直身）或鏡面電火花成型機(jī)床（錐度）加工，將表面粗糙度降至最低。適用于對(duì)尺寸精度要求極高的鎢珠。
二、化學(xué)機(jī)械拋光法（CMP）
使用化學(xué)機(jī)械拋光墊，在拋光墊與鎢珠界面處動(dòng)態(tài)分配拋光組合物，如含氧化劑、精氨酸或其鹽、二羧酸、鐵離子源、膠體二氧化硅研磨劑及pH調(diào)節(jié)劑?？赝ㄟ^(guò)化學(xué)腐蝕與機(jī)械研磨協(xié)同作用，減少鎢特征部凹陷，提升表面平整度。需制拋光壓力與時(shí)間，避免過(guò)度腐蝕導(dǎo)致表面粗糙度上升。
三、電化學(xué)拋光法
先清洗鎢珠表面雜質(zhì)與污染物，再將鎢珠連接正電極，放入電解槽中電解拋光。在表面凸起部分溶解，達(dá)到鏡面效果后立即清洗鎢珠，防止殘留電解液腐蝕表面。適用于復(fù)雜幾何形狀的鎢珠，能均勻改善整體表面狀態(tài)。不易引入機(jī)械應(yīng)力，避免表面裂紋產(chǎn)生。
四、組合工藝優(yōu)化
動(dòng)靜液組合電化學(xué)拋光：粗拋，使用高濃度電解液與高流速，快速去除機(jī)械拋光劃痕。精拋，切換至低濃度電解液，提升表面質(zhì)量，減少晶界腐蝕。根據(jù)表面粗糙度變化曲線，控制拋光時(shí)間。在保證加工速率的前提下，選擇較小拋光壓力以減少微凹坑深度。選用含檸檬酸的酸性拋光液，抑制微凹坑形貌形成。
