鉬銅合金（Mo-Cu alloy）被廣泛應(yīng)用于高功率半導(dǎo)體器件的封裝熱沉、基板和散熱器等關(guān)鍵部件中。然而，由于該合金的表面化學(xué)性質(zhì)復(fù)雜、表面活性較低，直接用于封裝應(yīng)用時(shí)容易出現(xiàn)界面接合力不足、電接觸性能不佳、耐腐蝕性不穩(wěn)定等問題。因此，電鍍和表面處理工藝成為提升其封裝性能的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。
鉬銅表面主要存在兩種問題：一是鉬的化學(xué)穩(wěn)定性高，難以實(shí)現(xiàn)直接電鍍；二是銅的表面容易氧化，導(dǎo)致電鍍附著力差。因此，通常需對其表面進(jìn)行預(yù)處理，包括機(jī)械拋光、酸洗、堿洗、超聲波清洗等，以去除氧化物和雜質(zhì)，提高表面活性。隨后，通過化學(xué)沉積或物理氣相沉積（PVD）方法在其表面形成一層中間過渡層（如Ni、Cr或Mo），為后續(xù)的功能電鍍層提供良好附著基礎(chǔ)。
在電鍍工藝方面，最常見的是在鉬銅表面電鍍鎳層和金層（Ni/Au）。鎳層作為中間層，主要作用是提高附著力、增強(qiáng)抗氧化性能和防止金屬間擴(kuò)散；而金層則提供優(yōu)異的導(dǎo)電性和抗腐蝕性，特別適用于鍵合（wire bonding）、焊接（soldering）等封裝工藝。一般來說，鎳層厚度控制在38 μm，金層厚度控制在0.10.5 μm，即可滿足大多數(shù)電子封裝的性能要求。
除了傳統(tǒng)電鍍技術(shù)，近年來鉬銅合金也采用化學(xué)鍍、自催化鍍和等離子體表面改性等先進(jìn)技術(shù)。這些工藝具有溫度低、鍍層均勻性好、不受基體形狀限制等優(yōu)勢，尤其適用于復(fù)雜幾何結(jié)構(gòu)的鉬銅件。同時(shí)，表面處理過程中還可引入功能性涂層，如銀（Ag）涂層以增強(qiáng)焊接性、鉻（Cr）涂層以提升硬度及耐磨性等，從而根據(jù)不同的封裝環(huán)境和應(yīng)用需求，實(shí)現(xiàn)更高程度的定制化。
值得注意的是，表面處理工藝對鉬銅封裝性能的影響是綜合性的。一方面，良好的電鍍層能顯著提升界面結(jié)合強(qiáng)度，降低接觸電阻，提高封裝件的熱、電穩(wěn)定性；另一方面，不當(dāng)?shù)奶幚恚ㄈ缜逑床粡氐?、電鍍層過厚或不均勻）可能導(dǎo)致熱界面阻抗增加、焊接可靠性下降，甚至出現(xiàn)分層、開裂等失效問題。因此，在鉬銅的封裝設(shè)計(jì)中，表面處理必須與材料組成、工藝條件及使用環(huán)境協(xié)同優(yōu)化，才能實(shí)現(xiàn)最佳的性能匹配。
