三氧化鎢緩沖層

盡管有科學(xué)實(shí)驗(yàn)證明了OLED器件通過(guò)加入三氧化鎢緩沖層確實(shí)有效提高了發(fā)光亮度。但是對(duì)于功率效率而言IWO/WO3-OLED器件卻并沒(méi)有因?yàn)槿�氧化鎢的插入而得到有效改善。發(fā)光效率上,IWO/WO3-OLED器件明顯不如IWO-OLED。

經(jīng)過(guò)科學(xué)分析可知,OLED器件性能與緩沖層(buffer layer)厚度均勻性以及表面平整性有著密切的聯(lián)系。一般而言，利用濺射法所制造的三氧化鎢緩沖層，易受工藝控制因素不良而導(dǎo)致表面不平整，進(jìn)而產(chǎn)生表面的尖端物質(zhì)或突起物。另外高溫鍛燒及再結(jié)晶的過(guò)程亦會(huì)產(chǎn)生表面突起層。這些不平整層的細(xì)粒之間所形成的路徑會(huì)提供空穴直接射向陰極的機(jī)會(huì)，而這些錯(cuò)綜復(fù)雜的路徑會(huì)使漏電流增加。

研究結(jié)果表明,三氧化鎢功函數(shù)修飾層有助于改善OLED器件性能。但是,緩沖層的最佳厚度、均勻性、以及摸索其他電學(xué)和光學(xué)性能的改善,都值得進(jìn)一步研究和關(guān)注。